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硅片清洗废水处理案例|硅片清洗废水处理方法

该厂为8厘米晶圆工作线配合的超净水系统的,时刻引起含硅污水150吨。污水里面虽无天价属,但硅硫含量高易结渣,且阻值率需符合18MΩ·cm才会回收利用。改变治理 工艺设备无发要求新颁布法律的《光学重工业水生态破坏物进行废气排放规范》(GB39731-2020)尤为进行废气排放标准值。 电镀废水物质优点和缺点 重要严重环境有害特性 :溶液硅(200-300mg/L)、颗粒物硅(比表面积0.1-1μm) 异常特殊要求 :TOC<10μg/L,硼的含量<5μg/L 水质标准特征 :低导电率(<50μS/cm)但硅无机化合物性状麻烦 操作技术方案 自主创新采取"梯级膜脱离+电去阴阳离子"组合成工艺设备: 微滤预解决 :1μm瓷砖膜屏蔽大粒子硅,通量维护80LMH 阴离子传递树脂材料 :D201大孔树脂材料决定性吸附剂硅酸原子核 中级RO软件系统 :弟一段回收公司率60%,其二段选用高脱硼膜元器件 EDI电去阴阳离子 :电流值密度单位2A/m²,持续不断彻底清除残存阴离子 红外光谱除臭 :254nm太阳光的紫外线,线用药量40mJ/cm² 技术水平创新举措 開發专门阻硅剂(有机酸胺类塑料物),推迟膜感染寿命3倍 EDI板块革新流道构思,硅清除率提拔至99.8% 在线播放硅分析一下仪(在线测量面积0.1-500μg/L)完成优质把握 正常运行作用 经第几方面方判断: 总硅从280mg/L调至0.05mg/L 硼量从8μg/L高于0.3μg/L 设备收废率从原40%增加至68% 膜调换时间间隔廷长至5年,年运营总成本降低了35%

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